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技術文章
TECHNICAL ARTICLES多功能燒結爐采用高純石墨作發熱體，WRe熱電偶作測溫元件，用精密數顯程序控溫儀控溫，能實現爐溫的自動程序升降或手動升降溫。采用電動液壓升降機構對試樣(模具)加荷，由精密壓力傳感器和數顯測力計檢測加荷力的大小，加荷速度連續可調，同時可實現自動加荷。由二級真空機組對爐膛進行抽真空，可實現樣品的真空熱壓燒結。同時也可注入適量保護氣氛或反應氣氛作氣氛熱壓燒結。配置所需坩堝后可用于常規真空燒結試驗或真空熔煉。多功能燒結爐用途：設備廣泛應用于結構陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷、人工晶體、復合材...
藍寶石(Sapphire)是一種氧化鋁(α-Al2O3)的單晶，又稱為剛玉。藍寶石晶體具有優異的光學性能、機械性能和化學穩定性，強度高、硬度大、耐沖刷，可在接近2000℃高溫的惡劣條件下工作，因而被廣泛的應用于紅外軍事裝置、衛星空間技術、高強度激光的窗口材料。其*的晶格結構、優異的力學性能、良好的熱學性能使藍寶石晶體成為實際應用的半導體GaN/Al2O3發光二極管(LED)，大規模集成電路SOI和SOS及超導納米結構薄膜等為理想的襯底材料。近年來，隨著現代科學技術的發展，對藍...
箱式氣氛爐爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。可用于氮氣、氬氣等惰性氣體下產品燒結實驗。爐膛材料采用的進口氧化鋁多晶纖維制成，節能50%，二面或上下加熱，溫場均勻。加熱元件采用硅鉬棒或高溫鉬絲。箱式氣氛爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。設備主要結構和配置：1、爐殼：雙層爐殼結構，內...
碳化硅單晶材料的制備及缺陷分析以硅（Si）、砷化鎵（GaAs）為代表的代和第二代半導體材料的高速發展，推動了微電子、光電子技術的迅猛發展。然而受材料性能所限，這些半導體材料制成的器件大都只能在200℃以下的環境中工作，不能滿足現代電子技術對高溫、高頻、高壓以及抗輻射器件的要求。作為第三代寬帶隙半導體材料的代表，碳化硅（SiC）單晶材料具有禁帶寬度大、熱導率高、電子飽和遷移速率高和擊穿電場高等性質。SiC器件在高溫、高壓、高頻、大功率電子器件領域和航天、軍工、核能等環境應用領域...
壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。該設備的加熱元件采用陶瓷纖維加熱扳或陶瓷發熱棒，可滿足快速升溫工藝要求；溫控系統采用進口多段智能程序溫度控制儀控制，溫度控制系統的穩定性、重復性十分可靠；變頻無級調速，不銹鋼網帶傳送，全新的外觀設計理念，確保了產品平穩輸送。設備主要用于特種陶瓷，精密陶瓷，熒光粉，發光粉，粉末冶金，鋰電池材料等無機材料的燒結。應用范圍：用于特種陶瓷,精密陶瓷，...
立式真空退火爐主要用來生產供二次真空用自耗電極和精密鑄造零件，大型真空感應爐也用來生產特殊鋼錠。冷坩堝熔煉又稱感應殼熔煉，其特點在于避免了未用耐火材料坩堝造成的污染，因而可無污染地熔煉活潑金屬及難熔金屬。真空電弧重熔是一種成熟的真空重熔技術，主要用于生產鈦基、鎳基或鈷基高溫合金、鈦、鋯等活潑金屬及鎢、鉬、鈮、鉭等難熔金屬，大型爐子也用來重熔特殊鋼。隨著空間技術、半導體工業的迅速發展，電子束重熔亦有很大進展，熔煉范圍業已從難熔金屬擴展到半導體材料和一些具有特殊用途的鋼種熔煉。用...
真空熱壓爐是一種以石墨為發熱元件的立式真空電阻爐。它具有框架式雙柱支撐。液壓缸在壓力源下升降，可用于金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等，在真空或保護氣氛中加熱和沖壓產品。廣泛用于高溫、高真空條件下硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等熱壓燒結。在曝氣保護下也可以通過熱壓成型和燒結。主要應用范圍：熱壓成型、高溫燒結結合，適用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高溫熱成型，如透明陶瓷、工業陶瓷等金屬及耐火材料。合金材料、陶瓷材料、碳化硅和氮化硅組成的金屬也可以用于在低于主要成分熔點的溫度...
氣氛爐采用先進技術研制開發的高性能高節能的新型電爐，有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐型等。氣氛保護爐是國家標準節能型周期式作業爐，超節能結構，采用先進的復合爐襯結構，節電30%-40%適用于精密鑄造行業和模殼加熱，效率高，比燃油、燃煤成本大大降低。選用高品質節能型輕質泡...
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